“浸润式光刻之父”林本坚：依靠DUV可从7nm推向5nm工艺

11月27日消息，据台湾媒体DigiTimes报道，近日，有“浸没式光刻之父”之称的Burn Lin在接受采访时表示，依靠DUV光刻机继续将工艺从7nm推向5nm是可能的，但需要付出高昂的代价。

报道称，由于美、日、荷对中国半导体设备的限制，中国不仅难以获得能制造先进工艺的半导体设备，还难以获得更先进的EUV光刻机。这也使得中国很难继续将制裁进程推进到5nm。

不过，林本建表示，基于现有的DUV光刻机(浸没式)制作5nm芯片还是可行的，但至少需要四次曝光。遗憾的是，这种工艺的缺点不仅耗时，而且昂贵，还会影响整体的良率。

特别是当使用DUV机器时，在多次曝光过程中需要精确对准，这可能需要时间，并且可能发生未对准，导致产量降低和制造这些晶片的时间大大增加。

林本建表示，浸没式DUV光刻技术可以实现最高的六次光刻模式和更先进的技术，但问题也来自于上述相关缺点。

编辑:辛志勋

原标题:林本建:浸没式DUV可以做到5nm，但是成本会很高！

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